Новости

Toshiba демонстрирует техпроцесс 20 нм

Логотип ToshibaToshiba разработала светочувствительную пленку высокого разрешения, необходимую для применения в экстремальной ультрафиолетовой литографии, используемом при производстве полупроводников. Таким образом, компания первой смогла достичь техпроцесса с нормами в пределах 20 нм.

Пленка, используемая в промышленности в данный момент, не позволяет из-за своей молекулярной структуры создавать полупроводники с нормами в пределах 20 нм. Toshiba удалось разработать более мелкую молекулярную структуру этой важного элемента технологии производства полупроводников.

Помещенная на пластину, такая пленка в зависимости от позитивного или негативного типа процесса, испаряется, давая лазеру возможность создавать транзисторы и другие элементы микросхем. Ожидается, что новая пленка и технормы масштаба 20 нм будут массово применяться после 2013 года.

Теги: 20 нм, Toshiba


Комментарии
Добавить комментарий

Введите имя:
Войти от:
или
Ваш комментарий:


Введите код:

E-mail (не обязательно)
Адрес электронной почты не предназначен к показу и будет использован только для уведомлений об ответах


Последние новости

 
В мобильной версии Яндекс.Браузера появился встроенный VPN
 
Такое положение Touch ID запечатлено на новых рисунках смартфона
 
Летом выйдет обновление, которое сделает игру интереснее
 
Полиция арабского эмирата продемонстрировала первые образцы
 
Его можно сгибать, скручивать и растягивать
 
Также в смартфоне будет сдвоенная камера
 
Премьера запланирована на 20 сентября 2019 года
 
И сообщать разработчикам, если они написаны плохо

Архив новостей

 
 
ПнВтСрЧтПтСбВс
1234567
891011121314
15161718192021
22232425262728
293031    



Последние статьи

Очень приличный смартфон за свои деньги
Один из самых дешевых телефонов Nokia
Обзор семи приложений для записи звонков
Симпатичный смартфон с хорошими характеристиками


Опрос

Вы покупаете на AliExpress?
или оставить собственный вариант в комментариях (1)

Последние темы

форума