Компания Intel верит в возможность дальнейшего соблюдения закона Мура. О своих будущих 10-нм чипах компания расскажет на этой неделе в рамках конференции ISSCC 2015.
Известно, что такие процессоры станут доступны в конце 2016 – начале 2017 года. На освоение новой технологии компания планирует потратить вдвое меньше времени, чем в случае с 14-нм техпроцессом, который потребовал дополнительной оптимизации для снижения уровня брака. Переход на иммерсионную литографию пока не планируется.
В дальнейшем Intel намерена сфокусироваться на выпуске 7-нм продукции. Однако такие чипы будут изготавливаться не из кремния, а из полупроводников на основе арсенида галлия-индия. Они будут потреблять меньше энергии, даже при работе на больших частотах.
Также Intel допускает использование компоновки 2.5D и 3D для сегмента смартфонов и планшетов, где компактные размеры могут оправдать затраты на многоярусное размещение разнородной логики. Однако для этого еще предстоит решить проблему теплопроводности между слоями.
